「中國版曼哈頓計畫」拼出首台EUV原型機　重金召募ASML前工程師逆向拆解

美國多年來聯手荷蘭積極實施出口管制，力圖阻止中國取得最先進的晶片製造設備「極紫外光微影機」（EUV），但路透社報導，中國延攬多名曾任職荷蘭艾司摩爾（ASML）的中國裔工程師，今年初已透過逆向工程重建一台ASML的EUV原型機，正進行測試。

路透社引述知情人士透露，這項研發計畫在深圳一處實驗室秘密進行，有如「中國版曼哈頓計畫」，即美國二戰期間研發原子彈的機密工程。計畫由中國政府主導，華為公司則在其中扮演關鍵角色，協同眾多企業與國家研究機構，共有數千名工程師參與。

其中一名知情人士說，這項計畫的終極目標，是完全使用中國製設備生產先進晶片，「將美國完全踢出供應鏈」。

荷蘭ASML是目前全球唯一掌握EUV技術的企業，每台EUV微影設備（又稱曝光機，中國稱光刻機）要價2.5億美元（約79億元台幣）。

EUV已是製造最先進晶片不可或缺的工具，也是當前科技冷戰的核心。這類機器利用極紫外光束，在矽晶圓上蝕刻出比人類頭髮更細數千倍的電路，電路越小，晶片效能就越強。

以EUV製造的先進晶片是AI科技、智慧型手機，以及西方國家維持軍事優勢的武器系統核心。這些晶片由輝達（Nvidia）、超微（AMD）等公司設計，並由台積電、英特爾與三星等晶圓廠生產。

購買ASML舊款設備零組件　打造原型機

報導稱，中國是在二手市場取得舊款ASML設備零組件，打造出國產原型機。當局設定目標，希望在2028年前以該原型機生產出可用晶片。知情人士稱，比較可行的時間點是2030年，但仍比外界原先估計的進程來得快。

知情人士指出，中國這台原型機與ASML設備相較，仍相當粗糙，但已具備足以進行測試的功能，且成功產生極紫外光，但尚未製造出可實際運作的晶片。

報導稱，中國落後的主因在於難以取得如德國蔡司（Carl Zeiss AG）所生產的精密光學系統，蔡司是 ASML 的關鍵供應商之一。

ASML 執行長福克（Christophe Fouquet）今年4月曾表示，中國要發展出EUV技術仍需「很多、很多年」。ASML 向路透表示：「企業希望複製我們的技術並不令人意外，但這絕非易事。」

ASML在2001年打造出首台可運作的EUV原型機，歷經近20年與數十億歐元的研發投資後，首批商用晶片2019年才問世。

美國自2018年起即施壓荷蘭，要求阻止ASML向中國出售EUV設備。2022年，拜登政府進一步擴大出口管制，全面切斷中國取得先進半導體技術的途徑。ASML向路透表示，至今從未向中國客戶出售任何一套 EUV 系統。

美方的管制措施不僅針對 EUV，也涵蓋較舊的深紫外光（DUV）微影設備，後者用於生產如華為晶片等較不先進的產品，目的是讓中國在晶片製造能力上至少落後一個世代。

知情人士表示，出口限制多年來已拖慢中國邁向半導體自給自足的腳步，也限制了華為的先進晶片產能。

荷蘭國防部指出，正研擬政策，要求「知識機構」進行人員審查，以防止「心懷不軌或可能遭施壓者」接觸敏感技術。美國國務院則表示，川普政府已強化對先進半導體製造設備出口管制的執法，並與夥伴合作「隨著技術演進，堵住漏洞」。

召募ASML前中國裔工程師　要求以假名工作

據報導，中國延攬多名曾任職ASML的資深中國裔工程師，要求他們以假名工作。

一名被延攬的工程師透露，他取得豐厚簽約金的同時，訝異發現還附帶一張寫著假名的身分證。他進入深圳的秘密廠區後，發現多名ASML前同事也在廠區內工作，但均使用假名。高層要求他們向其他員工隱匿真實身分。

兩名知情人士指出，高層明確指示該計畫屬國家安全機密，不得讓廠區以外的人知道他們在做什麼，甚至不能得知他們的存在。

報導稱，中方主要召募的對象就是在中國出生的ASML前工程師與科學家，因為他們既掌握關鍵技術知識，離職後所受的職業限制也較少。

兩名在荷蘭工作的華裔 ASML 現職員工也向路透表示，他們至少自2020年以來就接獲華為的獵頭接觸。

報導稱，ASML追蹤前員工的能力受到歐洲隱私法規限制；員工雖簽署保密協議，但要跨國執行相當困難。

ASML曾控告一名中國裔前工程師竊取商業機密，荷蘭法院2019年判決被告須賠償8.45億美元。但法院文件顯示，這名被告申請破產後，在中國政府支持下繼續在北京工作。

2019年起召募海外半導體人才　簽約金逾千萬

荷蘭情報機構在4月一份報告中警告，中國「透過廣泛的間諜計畫，試圖取得西方國家的先進技術與知識」，包括招募「西方科學家與高科技公司員工」。

知情人士指出，正是這些ASML資深工程師，讓中國得以突破EUV的技術發展。若沒有他們對技術的深入理解，幾乎不可能完成逆向工程。

報導稱，中國自2019年就積極召募海外半導體人才。根據中國政府政策文件，召募人才的簽約金高達300萬至500萬元人民幣（約新台幣1345萬至2240萬元），並提供購屋補助。

ASML光源技術前負責任林楠，就是被召募對象之一。專利文件顯示，他目前在中國科學院上海光學精密機械研究所的團隊，18個月內已申請8項 EUV 光源相關專利。

路透社引述知情人士稱，部分已歸化他國國籍者，參與計畫後已獲發中國護照，且獲准維持雙重國籍。中國官方明文禁止雙重國籍。

報導稱，這項計畫是中國「半導體自給自足」戰略的核心，這項戰略是中國國家主席習近平最重視的政策目標之一，由中共中央科技委員會主任的丁薛祥主導。丁薛祥也被認為是習近平的親信。